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开芯参加 ICEPT 2026:面向多层封装的开封与精密去层

在西安 ICEPT 2026,开芯关注多层封装、存储芯片与异构集成的分析需求,将开封、局部研磨和等离子后处理连成完整制样路径。

开芯参加 ICEPT 2026:面向多层封装的开封与精密去层
ICEPT 2026 大会全景 · 西安交通大学 ↗

活动时间:2026-08-05 – 2026-08-07
活动地点:中国 · 西安

2026 年 8 月 5—7 日,第 27 届电子封装技术国际会议(ICEPT 2026)在西安举行,开芯参加本届会议。会议由中国科学院微电子研究所、西安交通大学、IEEE EPS 及中国电子学会电子制造与封装技术分会共同主办,聚焦先进封装与异构集成等方向。

多层结构,需要分阶段获得访问条件

多层 Die 与存储芯片封装的分析,往往需要从整体结构观察进一步进入指定层面。开封后可见的键合线、芯片边缘及界面关系,为后续制样提供判断依据。开芯重视先明确需要观察的层次,再确定局部去除范围和停止位置。

MIP 开封与精密机械去层配合

MIP 等离子处理可用于评估封装树脂去除与互连暴露;在需要访问下层区域时,可进一步结合 iMech Pro 进行精密机械制样,再对适用区域实施等离子后处理。分阶段检查有助于掌握暴露进展,避免将一次整体去除作为所有封装的统一方案。

把可见结果转化为可用的分析样品

开芯关注的结果包括目标层是否充分暴露、关键互连是否便于观察,以及残留是否影响后续判读。对具体样品,还需结合电性测试或其他分析手段确认结果。开芯将继续围绕先进封装与存储器件完善开封、去层及应用支持。

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