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开芯参加 CPRIM 2025:聚焦微细互连与封装可靠性制样

面向 Underfill、微细互连和材料界面的分析需求,开芯关注局部机械制样与 MIP 等离子后处理的组合路径。

开芯参加 CPRIM 2025:聚焦微细互连与封装可靠性制样
CPRIM 2025 大会现场 · 广东省集成电路行业协会 ↗

活动时间:2025-11-26 – 2025-11-27
活动地点:中国 · 广州

2025 年 11 月 26—27 日,先进封装可靠性技术暨互连材料大会(CPRIM 2025)在广州举行。开芯参加本次大会。会议由广东省集成电路行业协会、未来半导体主办,以“多维互连,可靠赋能”为主题,围绕先进封装可靠性与互连材料展开。

材料界面,决定制样关注点

底部填充胶(Underfill)、封装树脂和微细互连共同构成复杂的材料体系。制样不仅需要到达目标位置,还要考虑残胶是否遮挡结构、处理是否改变待观察表面,以及互连之间是否便于辨识。对 μbump 等精细结构,这些因素会影响后续失效判读。

局部研磨与等离子后处理协同

开芯可结合 iMech Pro 进行局部机械制样,再评估使用 MIP 等离子处理目标区域的聚合物残留。针对需要从封装底侧进入的样品,可规划底侧局部研磨路径,避免未经评估就从顶部穿过功能 Die。实际去除深度、终点与处理顺序,应以样品结构和分析目标为依据。

让可靠性问题获得清晰的观察条件

开芯关注将材料去除记录与显微观察结合起来,为互连、界面和残留状态提供可复核的信息。外观暴露结果与电性结论应分别验证;围绕具体样品建立检查节点,有助于减少制样引入的干扰。

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